Hide menu

Material för mikrosystem

SU-8 Ultratjock negativ fotoresist.

  • SU8-(2-25): Information om SU8 grades 2, 5, 10 och 25. För att skapa tunna skikt.
  • SU8-(50-100): Information om SU8 grades 50 och 100. För att skapa tjocka skikt.

Spin-coating SU-8. En graf som visar sambandet mellan spin-hastighet och tjocklek för olika typer av SU-8 resister.

Sylgard 184 - PDMS. Detaljerad information från Dow Corning.

Silikonkemi, en översikt framtagen av Dow Corning.

Att skriva akademiska rapporter

Academic Writing: Tips och råd för att skriva vetenskapliga rapporter.

Tips och Tricks

Interferensfärger i tunna filmer tex SiO2, polymerer.

Mönstring med mjuk litografi. En vetenskaplig rapport från IBM Zürich om stämplar för mjuk litografi och mönstring.

Torretsning, sammanställning av metoder och etshastigheter för torretsning.

Våtetsning, sammanställning av metoder och etshastigheter för våtetsning.

Chips and Tips sammanställning av en massa praktiska metoder för att tex skapa små mikrofluidikchips

NaPa Library of Processes Mängder av "recept" för att skapa nanomönster

Soft_Lithography_for_Dummies: En enkel guide till hur man lyckas med Mjuk litografi, av Magnus Krogh (Uppdaterad av Peter Åsberg).

Template: Templat för masker som ritas i CleWin. Allt som ska vara med måste ritas i lager 1. Den stora ljusgrå Cirkeln samt det grå Krysset är bara med som guidning, ta bort dessa när masken är klar.


Responsible for this page: Niclas Solin
Last updated: 08/16/12